ZP-271/03/2025 Postępowanie / Procedure: Dostawa dwóch identycznych zaawansowanych systemów szlifowania powierzchni zaprojektowanych specjalnie do szlifowania podłoży półprzewodnikowych, takich jak azotek galu (GaN) i węglik krzemu (SiC).

Zamawiający / Ordering Party:
Instytut Wysokich Ciśnień Polskiej Akademii Nauk,
ul. Sokołowska 29/37,
01-142 Warszawa

Nr sprawy / Case no. ZP-271/03/2025

Postępowanie / Procedure: Dostawa dwóch identycznych zaawansowanych systemów szlifowania powierzchni zaprojektowanych specjalnie do szlifowania podłoży półprzewodnikowych, takich jak azotek galu (GaN) i węglik krzemu (SiC). /  Delivery of two identical advanced surface grinding systems designed specifically for grinding semiconductor substrates such as gallium nitride (GaN) and silicon carbide (SiC).

Postępowanie jest prowadzone w trybie przetargu nieograniczonego na podstawie art. 132 Ustawy. / The procedure is conducted as open tender under Article 132 of the Act.

Adres strony internetowej prowadzonego postępowania / Website address of the conducted procedure:

https://ezamowienia.gov.pl/mp-client/search/list/ocds-148610-97873a09-7367-4290-a091-2bcda58b4519